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攝像頭模組清洗設備

攝像頭模組清洗設備

  • 所屬分類:半導體清洗材料
  • 瀏覽次數:0
  • 發布日期:2021-10-26 15:09:46

產品概述

攝像頭模組清洗機

應用領域:

清洗機

清洗工藝

放入物料   —— 一鍵清洗開始,安 全門自動關閉 —— 二流體清洗—— 離心脫水(去靜電離子風與加熱腔體輔助干燥) --- 清洗完畢,報警提示 --- 玻璃門自動打開。

設備特點:

  • 可更換清洗盤清洗多種產品,清洗盤按產品定做;

  • 設備操作方便快捷,更具人性化;

  • 設備采用二流體清洗,清洗精度高,對產品零損傷,純水消耗量極小

  • 旋轉式噴桿,避免二次污染產品;

  • 高速離心設計,轉速可調節100-1500R/Min;

  • 配備靜電消 除裝置、腔壁加熱裝置,輔助清洗達到較好效果;

  • 配備2級空氣過濾系統,壓縮空氣符合ISO8573.1標準;

  • 縮減寬度的省空間設計,減少無塵車間的占用面積;

  • 整機不銹鋼機身,能耐酸堿,對工作環境無污染,鏡面機殼使設備保養時 易于清理;

  • 完全使用超純水清洗,符合RoHS標準。

 

技術參數: 

設備外觀尺寸

 1050mm(L)×900mm(W)×1900mm(H)

 清洗盤規格

 定制(清洗盤直徑<?550mm)

 清洗方式

 二流體清洗

 干燥方式

 高速離心甩干

 電源供應

 AC380V 50HZ

 總功率

 7KW 

 耗電量

 清洗時: 3.5kw/h

 待機時: 1kw/h

 傳動馬力 

 3HP 

 環境過濾方式 

 0.3μm;99.999% 

 空氣過濾方式 

 1μm×1;0.01μm×1 

 離心轉速 

 100-1500RPM 

 純水消耗量 

 0-7L/Min 

 氣體消耗量 

 10-30m3/H 

 清洗壓力 

 液體壓力:3-8Kgf/cm2     空氣壓力:0.2-0.5Mpa

 DI水供應 

 流量:>7LPM  電阻率:>17MΩ 

 氣源供應 

 壓力:0.45-0.7Mpa;流量:>30m3/H(潔凈度符合清洗要求) 

 純水入口徑 

 ?12mm軟管或PT1/2″內螺紋 

 氣源入口徑 

 ?12mm氣管 

 排水出口徑 

 PT 1″內螺紋

 排氣口口徑

 4″×2(需加強抽風,風速大于3m/sec)

 機器凈重

約450KG


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