半導體行業所需材料:制造產業鏈的基礎材料,讓鯤鵬精密智能科技來給大家說說看吧

　　從材料的角度來看，與半導體行業相關的材料主要有三大類:1、半導體材料;2. 生產材料;3包裝材料。

　　拋光材料

　　半導體中的拋光材料一般是指CMP化學機械拋光工藝中使用的材料，這是實現晶圓整體均勻壓扁的關鍵工藝。

　　拋光材料一般可分為拋光墊、拋光液、調節劑和清潔劑，其中前兩者是關鍵。拋光墊材質一般為聚氨酯或聚酯配合飽和聚氨酯，拋光液一般由超細固體顆粒磨料(如納米級二氧化硅、氧化鋁顆粒等)、表面活性劑、穩定劑、氧化劑等組成。

　　光致抗蝕劑

　　光刻膠又稱光刻膠，是一種光敏混合液體。其成分包括:光引發劑(包括光敏劑、光酸產生劑)、光抗蝕樹脂、單體、溶劑和其他助劑。

　　光刻膠可以通過光化學反應、曝光、顯影等光刻工藝，將所需的微花紋從掩模(掩模)轉移到待加工的襯底上。

　　根據應用場景的不同，此處加工的基板可以是集成電路材料、顯示面板材料(LCD)或印刷電路板(PCB)。根據化學反應原理的不同，光刻膠可分為正光刻膠和負光刻膠。

　　從技術難度上看:PCB光刻膠< LCD光刻膠<半導體光刻膠;相應的本地化比例也越來越低。<>

　　光刻膠所在的微電子化工行業是典型的技術密集型行業，是電子工業與化工工業的交匯點。

　　從事微電子化工業務，必須具備與電子工業前沿發展相匹配的關鍵生產技術，如與生產工藝相匹配的混合技術、分離技術、凈化技術、分析檢測技術、環境處理和監測技術等。光刻膠的技術壁壘包括配方技術、質量控制技術和原料技術。

　　配方技術是光刻膠功能的核心，質量控制技術能保證光刻膠性能的穩定，優質的原料是光刻膠性能的基礎。

　　面具版本

　　在業內又稱光掩模、光掩模板、光刻掩模板，英文名MASK或PHOTOMASK，材料:石英玻璃、金屬、鉻和感光膠，本產品是以石英玻璃為基材，在其中金屬和感光膠上鍍鉻層，成為一種感光材料，圖形通過電子激光設備設計電路曝光在感光膠上，分別曝光區展開，在電路圖案上形成金屬鉻，經過類似曝光后的薄膜光掩模模板，然后應用到集成電路投影定位上，通過集成電路光刻機在投影電路上光刻，其生產加工程序為:曝光、顯影、感光膠粘接，然后應用到光刻上。