半導體所需材料：制造產業鏈的材料有啥？鯤鵬精密智能科技來給大家分享介紹一下吧！

拋光材料：一般指的是半導體材料的CMP拋光過程中使用的化學機械拋光材料，CMP拋光是實現晶圓整體均勻平坦的關鍵工藝。

拋光材料一般可以分為拋光墊、拋光液、調節器和清潔劑，其中前兩者非常關鍵。拋光墊的材質一般為聚氨酯或含飽和聚氨酯的聚酯，拋光液一般由超細固體顆粒磨料劑(如納米二氧化硅、氧化鋁顆粒等)、表面活性劑、穩定劑、氧化劑等組成。

光致抗蝕劑：光刻膠，也稱光刻膠，是一種對光敏感的液體混合物。其組成包括:光引發劑(包括光敏劑、產生光酸劑)、光刻膠樹脂、單體、溶劑等助劑。光刻膠可以通過光化學反應、曝光、顯影等光刻工藝，將所需的精細圖形從掩模(掩模)上轉移到待加工的基片上。這里加工的基板根據應用場景，可以是集成電路材料、顯示面板材料(LCD)或印刷電路板(PCB)。根據不同的化學反應原理，光刻膠可分為正極光刻膠和負極光刻膠。

就技術難度而言:PCB光刻膠< LCD光刻膠<半導體光刻膠;本地化的比例也越來越低。<>

光刻膠屬于微電子化學工業，是典型的技術密集型產業。從事微電子化工業務，必須具備與電子工業前沿發展相匹配的關鍵生產技術，如與生產過程相匹配的混合技術、分離技術、凈化技術、分析檢測技術、環境處理與監測技術等。光刻膠的技術壁壘包括配方技術、質量控制技術和原料技術。配方技術是光刻膠功能的核心，質量控制技術可以保證光刻膠性能的穩定，而優質的原材料是光刻膠性能的基礎。

面具版本：該行業又稱MASK、MASK、光刻MASK，英文名稱MASK或PHOTOMASK，材質:石英玻璃、金屬、鉻和光敏膠，本產品以石英玻璃為基片，其中的鉻鍍層在金屬和光敏膠上，成為一種感光材料，圖形通過電子激光設備設計出電路曝光在光敏膠上，被曝光區域顯影，在電路中形成圖案在金屬鉻上，類似膠片曝光后的光掩模模板，然后應用到集成電路投影定位上，通過集成電路光刻機對投影電路進行光刻，其制作和加工程序是:曝光、顯影、給光敏膠，接著應用到光刻上。